BOWMAN W系列
● X射線光學系統，用於使用μ點多導毛細管光學進行先進薄膜測量，以實現更小的斑點尺寸要求。
● Bowman W系列使用μ-spot多毛細管光學元件實現先進的薄膜測量。這款先進的XRF儀器具有小點，高通量X射線束和大窗口矽漂移檢測器，具有無與倫比的速度，精度和性能。
● 專為ENIG，ENEPIG和Electroless Nickel％P分析而設計，W系列非常適合包括PC板，引線框架，細線和更小光斑尺寸要求的晶圓的應用。
● 在與源距離相同的距離處實現比准直系統高出一百倍以上的通量。
● 雙攝像頭 - 單擊即可呈現250x：
Bowman W series 採用多導毛細管光學系統，將X射線束聚焦到7.5μm FWHM，是目前世界上使用XRF技術進行鍍層厚度分析的最小光斑尺寸。140倍放大相機用於觀察樣品上的細微特徵；同時配有低倍數相機，用於觀察樣品的宏觀成像。可編程X-Y平台可以精確地選擇及測量多個點，並自動執行測點識別功能。另外還可以使用2-D映射系統來查看諸如矽晶片的部件的表面區域上的鍍層的形貌。Bowman W series專門為晶圓量身定做的機型，自動檯面行程可符合12"晶圓。標準配置包括7μm多導毛細管光學器件、可編程樣品台。微/宏觀攝像系統有一個放大140倍的攝像頭，具有更高的數位變焦。
產品規格
| 元素範圍： | 鋁 13 到鈾 92 |
| X射線激發： | 50 W（50kV和1mA）微聚焦Mo陽極管（可選其它陽極元素） |
| 檢測器： | 分辨率為 145eV（Mn Ka）或更高的SDD檢測器 |
| 分析 層分析和元素的數量： |
每層5層（4層+底層）和每一層可達10個元素，同時分析多達25個元素 |
| 濾波器/準直器： | 4個主濾波器/多導毛細管FWHM 7.5um，實際光斑大約15um |
| 焦距深度： | 具有雷射和自動對焦的單一固定焦距0.08" |
| 數字脈衝處理： | 4096CH數字多通道分析儀，具有靈活的成型時間，自動信號處理包括無效時間校正和逃逸峰校正 |
| 電腦： | Intel，CORE i5 3470處理器，8GB DDR3內存，Microsoft Windows 10 Professional 64bit等效 |
| 相機光學： | 1/4″（6mm）CMOS-1280×720 VGA分辨率 |
| 影像倍率： | 雙鏡頭，140倍光學放大和7倍數位放大 / 9倍光學放大 |
| 電源供應： | 150W，100-240 伏特，頻率範圍為 47Hz 至 63Hz |
| 重量： | 190公斤 |
| 標準電動/可編程 XY： | 台面尺寸：300mm x 400mm / 行程：300mm x 400mm |
| 內部尺寸： | 高度：100 mm，寬度：735 mm，深度：914 mm |
| 外形尺寸： | 高度：785 mm，寬度：940 mm，深度：990 mm |